前沿透视：Nature Materials - 不用光刻胶也能实现MOF材料的图案化学术资讯

来源：今日新材料

金属有机骨架（metal-organic frameworks, MOF）材料具有化学多功能性和高孔隙率，在电子和光子学等领域潜力巨大。

有鉴于此，比利时鲁汶大学的Rob Ameloot课题组开发了一种不需要光刻胶，采用X光或是电子束直接对MOF材料进行光刻的技术。该技术避免了蚀刻损坏和污染，并保留了图案化MOF材料的孔隙率和结晶度。光刻出的高质量图案实现了低于50nm的精度。更加重要的是，采用的X射线和电子束光刻方法能够与现有的微细加工和纳米加工工艺相兼容，将极大推动MOF材料在微型设备中的集成与应用。

这项工作实现了一种工业上可行的MOF材料图案化技术，推动了MOF材料在微型固态设备中的集成进程。结合前期有关MOF材料的气相沉积技术，将使得采用MOF材料作为电子设备中的低k材料成为现实。

然而，在技术方面，尽管可以将MOF材料本身用作光刻胶，但X射线和电子束光刻技术在工业的大批量生产中仍然效率低下。因此需要使用最先进的高通量技术（例如极紫外光刻）来进一步探索纳米级的MOF图案化技术。另外，分辨率也需要进一步的提升，这就要求对多晶MOF膜的均匀性进行优化，以提高图案边缘的粗糙度。此外，MOF材料在三维成形（例如通过两光子光刻）的光刻胶方面也有潜在应用。

文献链接：
Direct X-ray and electron-beam lithography of halogenated zeolitic imidazolate frameworks，Nature Materials, 2020
https://www.nature.com/articles/s41563-020-00827-x

原文链接：
https://www.toutiao.com/i6888135535127167496/?tt_from=weixin&utm_campaign=client_share&wxshare_count=1&timestamp=1603789594&app=news_article&utm_source=weixin&utm_medium=toutiao_ios&use_new_style=1&req_id=20201027170633010129035133044D2447&group_id=6888135535127167496

来源：gh_d06fa4463e84 今日新材料

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