莱斯大学的一个实验室已经调整了其激光诱导石墨烯技术,以制作高分辨率、微米级的导电材料图案,用于消费电子和其他应用。
激光诱导石墨烯(LIG)是由莱斯大学化学家James Tour在2014年提出的,它涉及燃烧掉聚合物或其他材料中不属于碳的一切,让碳原子重新组合成具有特征的六方石墨烯薄膜。
该工艺采用了一种商业激光器,将石墨烯图案 "写入 "到迄今为止包括木材、纸张甚至食品在内的表面。
新的迭代将石墨烯的精细图案写入光刻胶聚合物中,光刻和光雕中使用的光敏材料。烘烤薄膜会增加其碳含量,随后的激光会凝固坚固的石墨烯图案,之后,未被凝固的光刻胶会被洗掉。
相关人员说:"这种工艺允许在更传统的类似硅的工艺技术中使用石墨烯电线和设备,它应该允许过渡到主线电子平台"。
据研究人员称,莱斯实验室生产的LIG线宽约10微米,厚达数百纳米,与现在通过更繁琐的工艺实现的相当,这些工艺涉及到连接到扫描电子显微镜的激光器。
据该论文的主要作者说,实现足够小的LIG线用于电路,促使实验室优化其工艺。
"突破口是对工艺参数的仔细控制,"研究人员说。"小的光刻胶线对激光的吸收取决于它们的几何形状和厚度,因此优化激光功率和其他参数使我们能够在非常高的分辨率下获得良好的转换。"
研究人员说,由于正极光刻胶在被旋转到基底上用于发光之前是一种液体,因此用金属或其他添加剂对原材料进行涂抹以定制其应用是一个简单的问题。
潜在的应用包括片上微型超级电容器、功能性纳米复合材料和微流体阵列。
文章来源:贤集网
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