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高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)作为一种高离化率物理气相沉积技术,可以明显提高薄膜结构可控性,进而获得优异的薄膜性能,对薄膜工业的发展有重要意义。近几年来,高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)在国内外研究领域和工业界受到了广泛关注和重视。
为贯彻落实国家创新发展的需求,更好推动该技术领域的进展,借助2021年7月23~25日在深圳召开“2021高功率脉冲磁控溅射技术与应用会议”召开的契机,北京大学深圳研究生院吴忠振副教授和《中国表面工程》编辑部于近期共同策划出版《高离化磁控溅射技术与应用》专辑。
专辑征文范围(包括但不限于)
01
高功率磁控溅射放电及其过程中电子与离子相互作用研究
02
高功率磁控溅射过程中的等离子体输运与诊断研究
03
高功率磁控溅射薄膜制备与结构、性能研究
04
高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)、调制脉冲(MPP)、深振荡(DOMS)、直流、中频、射频叠加及各种复合脉冲电源与放电技术研究
05
高离化等离子体仿真技术研究
06
高离化磁控溅射阴极靶结构及其协同控制研究
07
其他高离化离子镀膜技术及相关内容研究
专辑征稿截止时间至:2021年12月31日
专辑委员会委员
姓名 | 职称 | 单位 |
雷明凯 | 教授 | 大连理工大学 |
田修波 | 教授 | 哈尔滨工业大学 |
李刘合 | 教授 | 北京航空航天大学 |
朱嘉琦 | 教授 | 哈尔滨工业大学 |
吴忠振 | 教授 | 北京大学深圳研究生院 |
庞晓露 | 教授 | 北京科技大学 |
夏原 | 教授 | 中国科学院力学研究所 |
汪爱英 | 研究员 | 中国科学院宁波材料研究所 |
张斌 | 研究员 | 中国科学院兰州化学物理研究所 |
李志伟 | 教授 | 台湾明治大学 |
何主亮 | 教授 | 台湾逢甲大学 |
林健凉 | 教授 | 美国西南研究院 |
王启民 | 教授 | 广东工业大学 |
张侃 | 教授 | 吉林大学 |
代明江 | 研究员 | 广东省科学院表面工程研究所 |
陈强 | 教授 | 北京印刷学院 |
投稿要求
内容要求:论文应未在国内外刊物或会议上公开发表或宣读过。论文要达到国际、国内先进水平,内容丰富,对同行有较高的参考价值。
格式要求:word排版,符合《中国表面工程》中文版格式要求(参见本刊官网下载专区的投稿模板2021),论文篇幅6页以上为宜。综述论文篇幅在10页以上。
特别注意:来稿请在备注栏注明:高离化磁控溅射技术与应用
投稿网址:www.csejournal.com
服务邮箱:cse1988@csejournal.com
地址:北京西城区百万庄大街22号(100037)《中国表面工程》编辑部
吴忠振
专辑主编简介
吴忠振(1984—),北京大学深圳研究生院新材料学院副教授,博士生导师,兼任中国机械工程学会表面工程分会青年学组副主任、薄膜与装备学组副主任,广东省真空学会常务理事兼副秘书长,广东省机械工程学会表面工程分会副秘书长,Surface & Coating Technology客座编辑,《真空》《真空与低温》杂志编委等。2012年毕业于哈尔滨工业大学,之后一直在北京大学深圳研究生院从事材料表面改性和高离化磁控溅射方面的研究工作,2013—2016年间先后前往美国马里兰大学、香港城市大学访学。
近年来,在高离化、快速沉积涂层技术与装备、新型功能涂层制备与应用方面取得了多项成果,承担或参与国家重点专项、重点研发计划、以及广东省、深圳市等科技计划10余项,在Nano Lett.、AEM、PSST、SCT等国内外权威期刊上发表研究论文80余篇,申请国际PCT专利2项,国家发明专利30余项,转化科研成果多项,2018年获深圳市自然科学一等奖1项,并多次获得北京大学优秀教师、优秀党员等荣誉。
编辑:金程 校对:张彤
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