一种提高金属磁性多层膜矫顽力的方法

• 摘要：

  本发明提供了一种用反铁磁材料提高金属磁性多层膜矫顽力的方法,利用磁控溅射仪,在清洗干净的玻璃基片沉积铂Pt/[钴铬CoCr/铂Pt]₅/铁锰FeMn/铂Pt多层膜.本发明的优点在于:薄膜的厚度较小,同时又具有良好的垂直磁各向异性和较高的矫顽力,比较适合应用于CoCr合金薄膜的超高密度垂直磁记录.此外,沉积后的薄膜无需进行后退火处理,所以它还具有成本低,制备简单等优点,适用于未来的生产.

• 专利类型：

  发明专利

• 申请/专利号：

  CN200710176699.7

• 申请日期：

  2007.11.01

• 公开/公告号：

  CN101148751

• 公开/公告日：

  2008-03-26

• 发明人：

  于广华 冯春 滕蛟 李宝河 李明华

• 申请人：

  北京科技大学

• 主分类号：

  C23C14/34(2006.01)I,C,C23,C23C,C23C14

• 分类号：

  C23C14/34(2006.01)I,C23C14/18(2006.01)I,C23C14/54(2006.01)I,C,C23,C23C,C23C14,C23C14/34,C23C14/18,C23C14/54

• 主权项：

  1.一种提高金属磁性多层膜矫顽力的方法,其特征是在清洗干净的玻璃基片依次沉积铂Pt(50~500)/[钴铬CoCr(5)/铂Pt(7~25)]5/铁锰FeMn(25~500)/铂Pt(20~50),所述的玻璃基片表面外加垂直于膜面方向的磁场,大小为100~3000 Oe,所述的基片温度为100~300℃,所述的FeMn层的沉积温度为10~50℃,溅射室本底真空度为1*10-5~7*10-5Pa,溅射时氩气压为0.9~1.6Pa.