• 用于光辅助金属有机物化学气相沉积的气体喷淋头装置

    • 摘要:

      用于光辅助金属有机物化学气相沉积的气体喷淋头装置,涉及低压MOCVD领域.本发明包括气体管道,其特征在于,在气体管道上设置有紫外线光源;气体管道上还设置有透光窗口,从紫外光源到管道内部形成通光路径;在气体管道上设置有隔热装置.本发明的有益效果是,有效降低了喷淋头的温度,有效抑制了金属有机源蒸气在喷淋头内壁的反应;同时引入紫外线辐照,使得金属有机源大分子在到达衬底前得以提前分解,加快了反应速率,改善了薄膜质量.

    • 专利类型:

      发明专利

    • 申请/专利号:

      CN201210370795.6

    • 申请日期:

      2012.09.27

    • 公开/公告号:

      CN102899638A

    • 公开/公告日:

      2013-01-30

    • 发明人:

      熊杰 张飞 陶伯万 高磊 赵晓辉 李言荣

    • 申请人:

      电子科技大学

    • 主分类号:

      C23C16/455(2006.01)I,C,C23,C23C,C23C16

    • 分类号:

      C23C16/455(2006.01)I,C23C16/48(2006.01)I,C,C23,C23C,C23C16,C23C16/455,C23C16/48

    • 主权项:

      用于光辅助金属有机物化学气相沉积的气体喷淋头装置,包括气体管道[2],其特征在于,在气体管道[2]上设置有紫外线光源;气体管道[2]上还设置有透光窗口[4],从紫外光源到管道内部形成通光路径;在气体管道[2]上设置有隔热装置[3].