乙烯基有机/无机纳米杂化材料的合成方法

• 摘要：

  本发明是提供一种乙烯基有机/无机纳米杂化材料的合成方法,本方法采用传统的SOL－GEL方法,将无机组分SOL－GEL前体正硅酸乙酯在盐酸催化下水解成溶胶,在溶胶中加入乙烯基单体,形成凝胶.再采用γ射线辐照原位聚合凝胶中乙烯基单体,从而获得乙烯基有机/无机纳米杂化材料,聚合原理为自由基聚合.本发明可制备高无机(SiO₂)含量的杂化材料,材料的制备周期短,且聚合方法简单易行,整个过程易于工业化.

• 专利类型：

  发明专利

• 申请/专利号：

  CN98108617.9

• 申请日期：

  1998.05.09

• 公开/公告号：

  CN1235170

• 公开/公告日：

  1999-11-17

• 发明人：

  门永锋 董德文 蒋世春 姜炳政

• 申请人：

  中国科学院长春应用化学研究所

• 主分类号：

  C08F130/08,C,C08,C08F,C08F130

• 分类号：

  C08F130/08,C,C08,C08F,C08F130

• 主权项：

  1.一种乙烯基有机/无机纳米杂化材料的合成方法,是以传统的Sol－Gel法为基础,其特征在于采用Sol－Ge1前体正硅酸乙酯在盐酸催化下水解成溶胶,在溶胶中加入乙烯基单体,形成凝胶,凝胶中乙烯基单体的聚合采用γ－射线辐照原位聚合,采用的乙烯基单体结构如下式:在制备过程中,正硅酸乙酯(TEOS)在盐酸催化下水解成溶胶,乙烯基单体加入到溶胶电形成凝胶,凝胶制备温度在30－50 ℃,之后在γ－射线辐照下聚合,聚合温度在5－45 ℃,辐照剂量为5－100KGy,辐照时间为4－20小时,然后将样品置于60－80℃加热干燥1－2周,所得最终杂化材料中无机SiO2含量可达60％,在可见光范围内透光率在85％－100％.