• 降膜式脱挥器及其降膜元件

    • 摘要:

      本实用新型涉及降膜式脱挥器及其降膜元件,包括立式壳体及其上端相连的封头和下端相连的底壳,脱挥器内设有物料箱体和至少一根降膜元件,降膜元件上有多个降膜流道,物料箱体底板为布膜板,布膜板上为每个降膜流道分配有布膜结构.本脱挥器具有成膜面积大、成膜形态可控、流量调节范围宽等优点,适用于高黏聚合物生产、纺丝液脱泡和溶液浓缩等脱挥过程.

    • 专利类型:

      实用新型

    • 申请/专利号:

      CN201820991410.0

    • 申请日期:

      2018.06.26

    • 公开/公告号:

      CN209205310U

    • 公开/公告日:

      2019-08-06

    • 发明人:

      陈文兴 马建平 陈世昌 张先明 王勇军

    • 申请人:

      浙江理工大学

    • 主分类号:

      B01J19/20(2006.01),B,B01,B01J,B01J19

    • 分类号:

      B01J19/20(2006.01),B01J19/00(2006.01),B,B01,B01J,B01J19,B01J19/20,B01J19/00

    • 主权项:

      1.降膜式脱挥器,包括立式壳体(7)、连接于立式壳体(7)上端的封头(23)和下端的底壳(12)、物料进口(24)、真空抽气口(21)、物料出口(14),其特征在于:脱挥器内设有物料箱体(5)和至少一根降膜元件(18),降膜元件(18)上有多个降膜流道(18a),物料进口(24)与物料箱体(5)相接通,物料箱体(5)的底板为布膜板(51),布膜板(51)提供有布膜结构,所述各个降膜流道(18a)均被分配有布膜结构. 2.如权利要求1所述的降膜式脱挥器,其特征在于:降膜元件(18)外周分布有多条轴向限位壁(181),所述降膜流道(18a)是以降膜元件(18)外壁为底、同一降膜元件相邻两条轴向限位壁(181)为侧壁形成的扩口流道. 3.如权利要求1所述的降膜式脱挥器,其特征在于:降膜元件(18)外周分布有多个轴向内凹型凹槽,所述降膜流道(18a)是由轴向内凹型凹槽表面形成的扩口流道. 4.如权利要求1所述的降膜式脱挥器,其特征在于:布膜板(51)上为降膜元件(18)的每个降膜流道(18a)至少开有一个布膜孔(511)作为布膜结构. 5.如权利要求2所述的降膜式脱挥器,其特征在于:降膜元件(18)上相邻的两条轴向限位壁(181)之间至少设有一个凌空的横档(184). 6.如权利要求2或3所述的降膜式脱挥器,其特征在于:降膜元件(18)为套管结构,降膜元件的内管(182)的上端和下端全部开口,降膜元件的外管(183)上端开口、下端封闭,从而使内管(182)的内部、以及内管(182)与外管(183)之间的间隙形成通道. 7.降膜式脱挥器的降膜元件,其特征在于:降膜元件(18)上有多条轴向限位壁(181),所述轴向限位壁(181)沿降膜元件(18)周向分布,将降膜元件(18)外壁分隔成若干个降膜流道(18a). 8.如权利要求7所述的降膜式脱挥器的降膜元件,其特征在于:降膜元件(18)上相邻两条轴向限位壁(181)之间至少设有一个凌空的横档(184). 9.如权利要求7所述的降膜式脱挥器的降膜元件,其特征在于:每根降膜元件(18)上分布的轴向限位壁(181)数量为2~20条,降膜元件(18)外接圆直径为10~200mm,降膜元件(18)长度为0.5~20m,轴向限位壁(181)的高度为2~100mm. 10.降膜式脱挥器的降膜元件,其特征在于:降膜元件(18)上具有多个轴向内凹型凹槽,所述轴向内凹型凹槽沿降膜元件(18)周向分布,形成若干个降膜流道(18a). 11.如权利要求10所述的降膜式脱挥器的降膜元件,其特征在于:每根降膜元件(18)上分布的轴向内凹型凹槽(18b)数量为2~20个,降膜元件(18)外接圆直径为20~300mm,降膜元件(18)长度为0.5~20m,轴向内凹型凹槽(18b)的深度为2~100mm. 12.如权利要求7或10所述的降膜式脱挥器的降膜元件,其特征在于:降膜元件(18)为套管结构,降膜元件的内管(182)的上端和下端全部开口,降膜元件的外管(183)上端开口、下端封闭,从而使降膜内管(182)的内部、以及内管(182)与外管(183)之间的间隙形成通道. 13.如权利要求7或10所述的降膜式脱挥器的降膜元件,其特征在于:降膜元件(18)从上至下有多段同轴的降膜元件连接而成,从上至下各段降膜元件的外接圆直径逐渐变大.