一种稳定液柱生成及防护装置

• 摘要：

  本发明属于液体成分检测技术领域,特别涉及一种稳定液柱生成及防护装置.包括稳定液柱生成系统、防溅射系统及清洗与液体收集系统,其中稳定液柱生成系统用于将待检测液体样品生成稳定液柱;防溅射系统沿检测路径设置于稳定液柱生成系统的一侧;防溅射系统利用高速气流改变溅射液滴运动方向,完成液滴溅射防护;清洗与液体收集系统设置于稳定液柱生成系统的一侧,用于清洗装置被溅射液滴的污染处及收集液体样品和清洗水,同时进行排放.本发明能生成稳定的检测液柱,并能对液滴溅射现象进行有效防护,对检测过程产生的污染聚集现象进行清洗,可长时间实现免维护运行.

• 专利类型：

  发明专利

• 申请/专利号：

  CN202010841519.8

• 申请日期：

  2020.08.20

• 公开/公告号：

  CN111965168A

• 公开/公告日：

  2020-11-20

• 发明人：

  孙兰香 郑黎明 齐立峰 于海斌

• 申请人：

  中国科学院沈阳自动化研究所

• 主分类号：

  G01N21/71(2006.01),G,G01,G01N,G01N21

• 分类号：

  G01N21/71(2006.01),G01N21/01(2006.01),G01N21/15(2006.01),G,G01,G01N,G01N21,G01N21/71,G01N21/01,G01N21/15

• 主权项：

  1.一种稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,包括: 稳定液柱生成系统(100),用于将待检测液体样品(001)生成稳定液柱(002); 防溅射系统(200),沿检测路径(005)设置于稳定液柱生成系统(100)的一侧;所述防溅射系统(200)利用高速气流改变溅射液滴运动方向,完成液滴溅射防护; 清洗与液体收集系统(300),设置于稳定液柱生成系统(100)的一侧,用于清洗溅射液滴及收集液体样品(001)和清洗水. 2.根据权利要求1所述的稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,所述稳定液柱生成系统(100)包括进液接口(101)、软管(102)、漏斗组件(103)及位置调整机构(104),其中进液接口(101)、软管(102)及漏斗组件(103)由上至下依次连接,所述漏斗组件(103)设置于位置调整机构(104)上,且下端口设有喷流嘴;所述位置调整机构(104)用于调整所生成的稳定液柱(002)沿X和Y方向的空间位置. 3.根据权利要求2所述的稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,所述防溅射系统(200)包括环形气体氛围子系统(201)、窗口气刀子系统(202)、阵列风扇子系统(203)及溅射收集件(204),其中环形气体氛围子系统(201)设置于所述喷流嘴的外侧,用于喷射包围于所述稳定液柱(002)外侧的环形气流; 所述窗口气刀子系统(202)设置于所述稳定液柱(002)的近端,且位于所述检测路径(005)的上方;所述窗口气刀子系统(202)喷射出面状的气流,且垂直于所述检测路径(005); 所述阵列风扇子系统(203)设置于所述稳定液柱(002)的远端,且位于所述检测路径(005)的上方;所述阵列风扇子系统(203)喷射出体状的气流,且垂直于所述检测路径(005); 所述溅射收集件(204)设置于所述检测路径(005)的下方,并且与所述阵列风扇子系统(203)相对应;所述溅射收集件(204)对所述阵列风扇子系统(203)改变溅射方向的液滴完成收集. 4.根据权利要求3所述的稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,所述环形气体氛围子系统(201)包括环形罩及与环形罩连通的气管路,其中环形罩具有环形气室,所述环形气室的底部设有环形喷射口. 5.根据权利要求3所述的稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,所述窗口气刀子系统(202)包括线性气嘴及与所述线性气嘴连通的气管路. 6.根据权利要求3所述的稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,所述阵列风扇子系统(203)包括若干个高速风扇阵列;所述阵列风扇子系统(203)覆盖检测光的光谱传输区域(M). 7.根据权利要求3所述的稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,所述清洗与液体收集系统(300)包括液体收集件(301)、隔板(302)、排放管(303)、汇流件(304)及面清洗子系统(305),其中液体收集件(301)通过隔板(302)分隔成清洗腔(A)和收集腔(B),其中收集腔(B)位于所述稳定液柱生成系统(100)的下方;所述清洗腔(A)位于所述窗口气刀子系统(202)的下方;所述液体收集件(301)和隔板(302)上沿所述检测路径(005)设有检测窗口(306); 所述排放管(303)设置于所述收集腔(B)的底部;所述汇流件(304)设置于所述清洗腔(A)的底部,并且与所述排放管(303)连通; 所述面清洗子系统(305)设置于所述液体收集件(301)的外侧,用于清洗所述隔板(302). 8.根据权利要求7所述的稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,所述面清洗子系统(305)包括分路块(3054)及设置于所述分路块(3054)上的阵列清洗嘴(3055),所述阵列清洗嘴(3055)穿过所述液体收集件(301)上设有的通孔容置于所述清洗腔(A)内;所述分路块(3054)与供水管路连接. 9.根据权利要求8所述的稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,所述供水管路上设有介质电磁阀(3052)和节流阀(3053). 10.根据权利要求1-9任一项所述的稳定液柱生成及防护装置,其特征在于,还包括基础部件(500),所述基础部件(500)包括底板(501)和外罩(502),其中外罩(502)罩设于所述底板(501)上,形成容置腔;所述稳定液柱生成系统(100)、防溅射系统(200)及清洗与液体收集系统(300)设置于所述容置腔内.