热蒸镀

热蒸镀（Thermal Evaporation）是用于沉积薄膜的一种技术。

简介热蒸镀（ThermalEvaporation）是用于沉积薄膜的一种技术。源材料在真空腔中被电子束或者电阻丝加热蒸发成气态，气态的源材料会直接粘附在置于原材料上侧的衬底上，而不会与背景气氛碰撞。在常用气压下（），0.4nm大小的颗粒的平均自由程约为60nm。

影响沉积薄膜质量的因素蒸发腔内热物体产生的蒸发物蒸发腔内热物体（如加热灯丝）产生的杂质蒸发物会影响腔体的真空度，热蒸发的源材料原子可能会与这些杂质气氛反应。比如说，如果在热蒸镀铝（Al）的时候，腔体内存在氧气，便会反应形成氧化铝，便会阻碍沉积到衬底上的Al原子的量，使得沉积的Al薄膜的厚度很难精确控制。

衬底的粗糙度衬底的粗糙度也会影响沉积薄膜的质量。由于热蒸发的气态源材料主要是以一个方向粘附到基底上，如果衬底的粗糙度比较大，那么沉积的薄膜则会很不均匀，因为衬底上一些较突出的区域会阻碍蒸发物向某些区域运动，从而形成“梯状覆盖”1

本词条内容贡献者为:

韩拯 - 研究员 - 中国科学院金属研究所