光刻掩模

光刻掩模是光的一种掩蔽模片，其作用有类似于照相的通过它，可以使它“底下“的光剂部分成光，难溶于有机药品，一部分不感光，易溶于有机药品，以而制得选择扩散所需的窗口和互速所需的图案。

掩膜版分类掩膜版有两种：一种是在涂有普通乳胶的照相干版上，依据掩模原图，用照相方法制成的；另一种是在镀有一薄层金属（通常为铬）的玻璃版上，用光刻法在金属层上刻蚀出所需图形而制成的。为了使每块硅片能同时制作几十至几千个管芯或电路，掩模版上相应有几十至几千个规则地重复排列的同一图形。每个图形之间具有一定的间隔，以便制好管芯或电路后进行划片分割。制作一种平面晶体管或集成电路，需要有一组（几块至十几块）可以相互精确套刻的掩模版。对掩版的基夲求是：精度高、套刻准、反差强和酎磨损。1

光刻掩模制作在平面晶体管和集成电路的制造过程中，要进行多次光刻。为此，必须制备一组具有特定几何图形的光刻掩模。制版的任务就是根据晶体管和集成电路参数所要求的几何图形，按照选定的方法，制备出生产上所要求的尺寸和精度的掩模图案，并以一定的间距和布局，将图案重复排列于掩模基片上，进而复制批量生产用版，供光刻工艺曝光之用。

光刻工艺对掩膜版的质量要求（1）图形尺寸准确，符合设计要求，且不发生畸变。

（2）应有一定数量完全相同的图形，整套掩模版中的各次版应能依次一一套住，套准误差应尽量小。

（3）图形黑白域之间的反差要高，一般要求在2.5以上。

（4）图形边缘应光滑，无毛刺，过渡区要小（即“黑区”应尽可能陡直地过渡到“透明区”）。

（5）版面平整、光洁、无针孔、划痕和小岛。

（6）版面坚固耐用，不易变形。

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李晓林 - 教授 - 西南大学