前沿透视：界面化学键原子水平调控异质结光催化剂性能

在半导体表面修饰助催化剂形成异质结可显著提高光催化剂性能，但异质结光催化剂界面状态对光催化剂性能的影响规律仍然是该领域面临的关键科学难题之一。要研究异质结如何提高光催化剂的性能等光催化剂界面问题，必须在原子水平揭示异质结如何将半导体光催化剂与助催化剂相结合。

近日，杭州电子科技大学元勇军教授课题组与东南大学管杰教授合作，利用黑磷(BP)纳米片边缘P原子具有不饱和的配位环境，在BP纳米片边缘直接生长Ni2P助催化剂，合成了含有Ni-P界面化学键的Ni2P-BP光催化剂。Ni-P界面化学键可作为原子级载流子传输通道，减少了电子从BP到Ni2P助催化剂的传输距离，降低了界面电荷传输能垒，增强了光催化剂固氮及制氢性能。

文献链接：
Identifying the role of interface chemical bonds in activating charge transfer for enhanced photocatalytic nitrogen fixation of Ni2P-black phosphorus photocatalysts，Applied Catalysis B: Environmental，2021

原文链接：
https://www.toutiao.com/i6963233913607111171/