反应性金属酞菁衍生物及制备方法

• 摘要：

  本发明涉及一种反应性金属酞菁衍生物及其制备方法,该反应性金属酞菁衍生物具有式1的结构,其中:M为过渡金属离子,R₁、R₂、R₃、R₄分别为H、(式(A))五者中的任意一种,并排除R₁、R₂、R₃、R₄全部为H;R₅基团的结构可以是:-NH₂、-NHCOCH₃、-NHSO₃Na、-NHSO₃H、(如式(B))等;所述的制备方法,是将四氨基金属酞菁与三聚氯氰、三聚氟氰等在有机溶剂中反应而成;它具有原材料易得,制备步骤简单,产率和纯度较高、具有较好的水溶性等优点,并且具有较高的反应活性,可以很方便地与含有-OH、-SH、-NH-和-NH₂等活泼H的载体发生反应,形成牢固的共价键,从而将金属酞菁负载到载体上,以适应于催化、脱硫、传感器和光动力学治疗等不同的应用领域.

• 专利类型：

  发明专利

• 申请/专利号：

  CN200610052457.2

• 申请日期：

  2006.07.14

• 公开/公告号：

  CN1887885

• 公开/公告日：

  2007-01-03

• 发明人：

  陈文兴 吕慎水

• 申请人：

  浙江理工大学

• 主分类号：

  C07D487/22(2006.01)I,C,C07,C07D,C07D487

• 分类号：

  C07D487/22(2006.01)I,C09B47/22(2006.01)I,C,C07,C09,C07D,C09B,C07D487,C09B47,C07D487/22,C09B47/22

• 主权项：

  权利要求书1、一种反应性金属酞菁衍生物,其特征在于该反应性金属酞菁衍生物具有式1所示的结构,其中:M为过渡金属离子,R1、R2、R3、R4分别为H、五者中的任意一种,并排除R1、R2、R3、R4全部为H.或式1.