一种硅纳米材料的制备方法及应用

• 摘要：

  本发明提供了一种硅纳米材料的制备方法及其应用,该制备方法包括将硅源、还原剂与熔盐混合,在密闭的条件下加热进行反应,得到硅纳米材料;所述还原剂为金属,与现有技术相比,本发明在熔盐体系中还原硅源,所用原料便宜,熔盐使反应温度降低,且无需加入有机溶剂,使制备流程简单环保.

• 专利类型：

  发明专利

• 申请/专利号：

  CN201510427602.X

• 申请日期：

  2015.07.17

• 公开/公告号：

  CN105084365A

• 公开/公告日：

  2015-11-25

• 发明人：

  钱逸泰 朱永春 林宁

• 申请人：

  中国科学技术大学

• 主分类号：

  C01B33/021(2006.01)I,C,C01,C01B,C01B33

• 分类号：

  C01B33/021(2006.01)I,C01B33/023(2006.01)I,H01M4/38(2006.01)I,B82Y30/00(2011.01)I,C,H,B,C01,H01,B82,C01B,H01M,B82Y,C01B33,H01M4,B82Y30,C01B33/021,C01B33/023,H01M4/38,B82Y30/00

• 主权项：

  一种硅纳米材料的制备方法,其特征在于,包括:将硅源、还原剂与熔盐混合,在密闭的条件下加热进行反应,得到硅纳米材料;所述还原剂为金属.