一种双重响应型可降解光刻胶及其制备方法和使用方法

• 摘要：

  本发明涉及一种双重响应型可降解光刻胶及其制备方法和使用方法.本发明以能在不同波长紫外光下发生交联和解交联的分子作为交联剂,通过不同波长紫外光照射来实现光刻胶的交联和解交联;采用可水解的结构作为聚合物骨架,常温下能在pH>7的碱水溶液中发生降解,最终得到溶于水的小分子.将交联剂、光引发剂、活性单体和连接分子混合得到光刻胶体系,然后将此光刻胶应用于纳米压印,表现出优异的压印性能和降解性能,很好地解决了光刻胶对模板的损伤问题.此外,它还具有环保的特性,是一种环保型的可降解光刻胶.

• 专利类型：

  发明专利

• 申请/专利号：

  CN201610348839.3

• 申请日期：

  2016.05.24

• 公开/公告号：

  CN106054523A

• 公开/公告日：

  2016-10-26

• 发明人：

  魏杰 赵成阳

• 申请人：

  北京化工大学

• 主分类号：

  G03F7/004(2006.01)I,G,G03,G03F,G03F7

• 分类号：

  G03F7/004(2006.01)I,G03F7/027(2006.01)I,G,G03,G03F,G03F7,G03F7/004,G03F7/027

• 主权项：

  一种双重响应型可降解光刻胶,其基本组成和质量份数为:A可逆交联剂 10‑40份B活性单体 5‑30份C连接分子 10‑30份D光引发剂 1‑5份E有机溶剂 0‑60份其中活性单体B为带两个双键的酸酐;连接分子C为带两个或两个以上巯基的硫醇.