一种化学气相沉积系统

• 摘要：

  本实用新型提供了一种化学气相沉积系统,包括:化学沉积室;化学沉积室包括反应腔体;设置于化学沉积室外的高温加热装置;与化学沉积室相连通的气体供给系统;气体供给系统包括气体源进气管与固体源气体进气管,固体源气体进气管位于气体源进气管的管内;固体源气体进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通;气体源进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通;与化学沉积室的反应腔体相连通的真空系统.与现有技术相比,本实用新型将固体源气体进气管与固体源气体进气管分开,使固体源气体完全不受气体源气体的影响,使两种源无交叉污染生长;通过将固体源移到固体加热装置里,使其不受高温辐射的影响,实现对固体源蒸发速率的控制.

• 专利类型：

  实用新型

• 申请/专利号：

  CN201720306140.0

• 申请日期：

  2017.03.27

• 公开/公告号：

  CN206607312U

• 公开/公告日：

  2017-11-03

• 发明人：

  郭国平 杨晖 李海欧 曹刚 肖明 郭光灿

• 申请人：

  中国科学技术大学

• 主分类号：

  C23C16/448(2006.01)I,C,C23,C23C,C23C16

• 分类号：

  C23C16/448(2006.01)I,C23C16/455(2006.01)I,C,C23,C23C,C23C16,C23C16/448,C23C16/455

• 主权项：

  一种化学气相沉积系统,其特征在于,包括:化学沉积室;所述化学沉积室包括反应腔体;设置于化学沉积室外的高温加热装置;与化学沉积室相连通的气体供给系统;所述气体供给系统包括气体源进气管与固体源气体进气管,所述固体源气体进气管位于气体源进气管的管内;所述固体源气体进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通;所述气体源进气管的出口与所述化学沉积室的反应腔体相连通;与化学沉积室的反应腔体相连通的真空系统.