一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法

• 摘要：

  本发明涉及计算机仿真领域,具体的说是一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法.本发明包括以下步骤:确定场景中与辐射相关的参数;根据目标自身表面温度计算目标的自身辐射;根据太阳参数和目标表面反射率计算目标对太阳辐射的反射;计算目标对相邻建筑自身辐射的反射;计算目标对相邻建筑对太阳辐射的反射:依据太阳参数和大气环境参数计算目标的辐射影响.本发明能够有效地处理高光谱仿真中相邻物体对于目标的辐射影响,提高了仿真逼真度.

• 专利类型：

  发明专利

• 申请/专利号：

  CN201610473416.4

• 申请日期：

  2016.06.27

• 公开/公告号：

  CN107545082A

• 公开/公告日：

  2018-01-05

• 发明人：

  赵怀慈 李波 刘明第 孙士洁 吕进锋

• 申请人：

  中国科学院沈阳自动化研究所

• 主分类号：

  G06F17/50(2006.01)I,G,G06,G06F,G06F17

• 分类号：

  G06F17/50(2006.01)I,G,G06,G06F,G06F17,G06F17/50

• 主权项：

  一种高光谱仿真中的辐射影响计算方法,其特征在于,包括以下步骤:确定场景中与辐射相关的参数;根据目标自身表面温度计算目标的自身辐射;根据太阳参数和目标表面反射率计算目标对太阳辐射的反射;计算目标对相邻建筑自身辐射的反射;计算目标对相邻建筑对太阳辐射的反射:依据太阳参数和大气环境参数计算目标的辐射影响.