图型化聚合物刷的制备方法

• 摘要：

  本发明涉及一种图型化聚合物刷的制备方法,属于微纳米材料制备技术领域.通过共价键自组装技术将含有共引发剂胺的硫杂蒽酮光引发剂固定在基体材料表面,通过掩模版光刻对引发剂进行图型化的光漂白,然后光引发单体聚合,得到微米级图型的聚合物刷.本发明方法简单有效,适合大规模制备各种图型化聚合物刷子,并以此方法可以制备出功能性图型化聚合物刷,为聚合物刷的潜在应用拓展方向.

• 专利类型：

  发明专利

• 申请/专利号：

  CN200910052149.3

• 申请日期：

  2009.05.27

• 公开/公告号：

  CN101560061

• 公开/公告日：

  2009-10-21

• 发明人：

  印杰 姜学松 贾新雁 刘睿

• 申请人：

  上海交通大学

• 主分类号：

  C03C17/30(2006.01)I

• 主权项：

  1、一种图型化聚合物刷的制备方法,其特征在于包括如下步骤:1)将基片放在浓硫酸和双氧水的混合溶液中煮沸处理1-2h,混合溶液中浓硫酸与双氧水的质量比为7∶3,然后将基片置于丙酮中超声10-30min,最后用去离子水冲洗、烘干,去除基片表面的有机物和杂质;2)将洗净烘干的基片浸入3-环氧丙醇丙氧基三甲氧基硅烷的浓度为1-10mM的甲苯溶液中静置2h-24h,然后将取出的基片先后在甲苯和丙酮中超声清洗,烘干,得到环氧硅烷偶联剂自组装的基片;3)将环氧硅烷偶联剂自组装的基片浸入光引发剂浓度为2-10mM的氯仿溶液中,避光40℃加热2-12h,取出后在氯仿中超声清洗,烘干,获得表面引发剂接枝的基片;所述光引发剂为含有共引发剂胺的硫杂蒽酮光引发剂;4)将掩模版覆盖在表面引发剂接枝的基片表面,置于紫外灯下光照30-60秒,获得表面引发剂光漂白后的基片;5)将表面引发剂光漂白后的基片浸入单体浓度为0.5-5M的溶液,通氮气30min除氧后紫外光照,光照时间30min-5h;反应后将基片在甲苯、氯仿、丙酮或纯酒精中超声清洗,烘干,得到微米级图型化的聚合物刷.