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科技工作者之家 2020-07-02
来源:中科院物理所
拓扑光子学在近十几年得到了广泛的关注及研究,尤其是在拓扑边界态的应用研究上取得了重要的进展,例如单向传输、拓扑激光等。除了边界态外,最近国内外很多课题组提出在高阶拓扑绝缘体中存在零维拓扑角态,并且已经在多种体系中实现,包括二维的光子晶体结构。这种零维的高阶拓扑态为设计具有高品质因子的拓扑光学微腔提供了一个新的平台。拓扑光学微腔不仅具有高品质因子、低模式体积,而且其模式受拓扑保护,因此对它的研究将会促进拓扑光学在腔量子电动力学、量子信息处理及新型光学器件等方面的应用。图1.(a)拓扑光子晶体微腔示意图。(b)拓扑光子晶体的能带结构图。(c)零维拓扑角态的电场分布。(d)拓扑角态品质因子及频率随g(两种光子晶体结构之间的距离,如插图所示)的变化。
图2.(a)共聚焦实验装置图。(b)不同位置的荧光光谱。(c)来自于不同g的微腔的光谱。(d)含有不同数量的缺陷的微腔的荧光光谱。
图3.(a,b)拓扑激光。拓扑角态荧光强度(a)和线宽(b)随激发功率的变化。阈值约为1μW。(c,d)单个量子点与拓扑角态的弱耦合。(c)不同温度下的荧光光谱。当量子点(QD)与腔共振时,荧光强度增强约4倍。(d)共振(红色)与非共振(黑色)状态下的荧光衰减曲线。共振时的衰减速率约为非共振时的1.3倍。
来源:cas-iop 中科院物理所
原文链接:https://mp.weixin.qq.com/s?__biz=MzAwNTA5NTYxOA==&mid=2650886749&idx=3&sn=9c0e5430baf13f19c9527671b0961842&chksm=80d41bf0b7a392e6e653a3d7984370e52ad4d2f0d734f4592915eecbb0e8b48dd1edd81f2a34#rd
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