【材料】Angew. Chem.：基于羟基氧化钆亚纳米线薄膜的无机偏光片学术资讯

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偏光片是一种重要的光学器件，在光学领域具有重要的应用。目前应用的偏光片主要有碘系偏光片、染色系偏光片和线栅偏光片等。前二者都是主要基于高分子膜的偏光片，工艺较复杂，在光照、潮湿、外力以及温度变化的作用下，高分子膜会发生老化，伸展的高分子链恢复卷曲状态，此时偏光片就会丧失性能。线栅偏光片广泛的应用于紫外光的偏振，通常是通过光刻技术来制造的，如紫外干涉光刻、纳米压印光刻和嵌段共聚物光刻等，制作成本较高，工艺繁复。除了以上用于使透射光发生偏振的偏光片外，还有一种在非偏振光照射下发射偏振荧光的偏振片。目前这类偏光片都是将荧光量子棒分散于高分子膜中，再加以延伸定向，使之具有发射偏振荧光的性能。除了前面所述的高分子膜带来的缺点之外，荧光量子棒的合成也比较困难。因而制作一种稳定性强，工艺简单的偏光片成为了一个亟待解决的问题。

最近，清华大学化学系王训教授团队基于他们发现的无机亚纳米线的类高分子特性，通过湿法纺丝技术，得到了羟基氧化钆亚纳米线薄膜，该薄膜无任何高分子添加和基底，不会因为高分子老化而丧失功能。由于组成膜的亚纳米线沿轴向规整致密的排列，膜具有高的各向异性、双折射性质，对可见光具有各向异性散射的性质。除此之外，亚纳米线薄膜具有良好的柔性，可弯曲；具有90%以上的可见光透过率，在对紫外光进行偏振的同时可保证可见光的透过；不必通过复杂的步骤制备荧光量子棒，利用荧光量子点和亚纳米线复合即可得到发射偏振荧光的偏光片；制备工艺简单，通过湿法纺丝技术即可一步得到。

本工作解决了现有偏光片存在的一些问题，为研究制备工艺简单，稳定性高，透光性好的偏光片提供了新思路，为亚纳米线在光学领域的应用提供了一种新的视角。

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