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科技工作者之家 2020-06-26
来源:X一MOL资讯
具有高活性位点和高比表面积的氧缺陷氧化钨(WO3-x)纳米点被广泛应用于太阳能电池、电致变色器件、光催化、超级电容器等多个领域。通常情况下,纳米点材料可以通过剥离体相材料得到纳米片、继而化学剪裁纳米片制得;然而,由于氧化钨层间以共价作用连接,无法采用常用的剥离法获得纳米片,使得该策略无法应用于WO3-x纳米点的制备。目前WO3-x纳米点大多通过WCl6作为反应原料制备;然而WCl6极易水解,反应过程中必须保证绝对无水条件,而且所合成的WO3-x纳米点水溶性低。不仅如此,为了控制合成过程中纳米点的结构、限制其各向异性生长,通常需要用长链烷基胺或烷基酸作为其保护剂,这使得所得到的氧化钨纳米点电子传递缓慢。因此,探索合成高质量WO3-x纳米点的有效途径,同时避免使用不稳定反应前驱物、昂贵的反应设备和复杂的合成过程仍然是一个挑战。
图1. WO3-x纳米点的合成和性能示意图来源:X-molNews X一MOL资讯
原文链接:http://mp.weixin.qq.com/s?__biz=MzAwOTExNzg4Nw==&mid=2657643415&idx=7&sn=6cbaf6ab1831e11b631d9d74e20924a7&chksm=80f84247b78fcb51630b61480dde4edd03cf84aa6adff62f9bf1e2a8c5dee4b4c3fca6ec6c8d&scene=27#wechat_redirect
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