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科技工作者之家 2020-09-15
来源:知社学术圈
低维金属卤化物作为一种新型的发光材料近年来受到了广泛关注,其自陷态激子(STE)产生的宽带发射有望应用于单组分白光LED。尽管近些年人们已经开发出多种低维卤化物发光材料,但是要实现这类材料更好的实际应用,需要对其结构物性关系有更深入的认识,从而进一步优化发光性能。
北京高压科学研究中心的吕旭杰研究员和杨文革研究员领导的研究团队最新发现,压力可以有效抑制自陷态激子的非辐射复合速率,从而在一维杂化金属卤化物中实现了90%的荧光量子效率(图1)。该工作首次在吉帕高压(GPa)尺度上实现了荧光量子产率的确定。相关成果以“Reaching 90% photoluminescence quantum yield in one-dimensional metal halide C4N2H14PbBr4 by pressure-suppressed non-radiative loss”为题,发表于近期的《美国化学会会志》(Journal of the American Chemical Society)上。佛罗里达州立大学、阿贡国家实验室、橡树岭国家实验室的研究人员合作参与了该工作。图 1. 压力大幅抑制一维C4N2H14PbBr4的非辐射复合,实现90%的荧光量子效率。
作者简介:
吕旭杰,北京高压科学研究中心研究员,博士生导师。主要从事高压功能材料及其多维度调控研究。重点关注光电材料,包括金属卤化物材料,过渡金属氧化物和过渡金属硫族化合物等。采用先进的同步辐射和物性表征技术,原位观测材料在外部刺激下(包括压力、温度、磁场、激光、电磁辐射等),其结构和性质的变化,并深入理解其变化规律。另外,利用高压和高低温等极端条件探索常规方法无法获得的新材料和新结构,并通过纳米复合薄膜的设计生长在常压下实现新性能,寻求其在能源转换和存储方面的应用。近年来发表了包括Nature,J. Am. Chem. Soc.,Adv. Mater.,Angew. Chem. Int. Ed. 等在内的SCI论文70多篇,总引用超过4600次,H因子为36。
来源:zhishexueshuquan 知社学术圈
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